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研究内容
・当研究室では薄膜の作製には，主に右に示すような スパッタ装置を用いています。 手順としては，まず基板とターゲットと呼ばれる試料粉末を 装置内にセットします。その後スパッタガス（ここではアルゴン）を装置内に導入してRF電源によりプラズマを発生させ， 基板にターゲットを堆積させて製膜を行います。
※右の図をクリックすると詳細がみれます※
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